臭氧殺菌原理

因而正確認識臭氧在水中的物理、化學過程與臭氧殺菌的生物化學過程是極重要的。由于臭氧在水中溶解的機理以及臭氧對生物細胞物質(zhì)交換的影響過程極為復雜，本文不能詳細的探討，只就臭氧殺菌做一般性的討論。

其中：u：傳質(zhì)速度，可用在t時間內(nèi)從氣相傳入液相的臭氧量G確定，即dG/dt。K：傳質(zhì)系數(shù)，F(xiàn)：氣相與液相的接觸表面積，△C傳質(zhì)過程中的動力，可用臭氧在實際情況下與平衡時的濃度差決定(即水中臭氧濃度與臭氧源中臭氧濃度差別越大，傳質(zhì)速度越大)。

分析一般傳質(zhì)方程式可以知道，首先要使臭氧盡多地溶入水中，就要盡量加大臭氧與水的接觸表面積F，而這是接觸裝置決定的。

其次，△C說明臭氧發(fā)生器的濃度越高，越有利于水對臭氧的吸收·

第三，傳質(zhì)系數(shù)K則與多種因素有關(guān)，K(總傳質(zhì)系數(shù))為氣相傳質(zhì)系數(shù)K氣與液相傳質(zhì)系數(shù)K液之和，而臭氧屬于低溶解度氣體，K氣可忽略不計．而根據(jù)亨利一道爾頓定律，K液是多種物理參數(shù)的復合函數(shù)。

K液=f(T，P，u，w，p，ó)

其中臭氧溶解量與氣體壓力P成正比而與水溫T成反比。

隨著兩相相對線速度的增大，氣液兩相接觸表面積F及其更新速度也增大，但每個氣泡與液體接觸的時間會減小，因此從綜合效果來看，氣體-液體的相對線速度應維持在一個范圍內(nèi)較好．

液體的粘滯度u，密度p及氣液間介面表面張力。的提高可使相間表面更新速度降低，并相應使K液減小，所以Km與u，p，o成反比，對于各種飲用水，此項可忽略不計。

在應用中，我們應關(guān)注溫度、氣壓兩個參數(shù)，而在設計接觸裝置時則應注意到水流、氣流的相對速度，尤其是其中的溫度，因為溫度高了不但使水對臭氧的吸收效果下降，而且臭氧本身會因溫度過高而分解。國內(nèi)就曾發(fā)生過試圖用臭氧處理70·℃的水溫而沒有取得任何效果的例證。

1894年梅爾費特(Mailfert)根據(jù)前人的實驗報告求出以下臭氧在水中的濃度： 溫度(℃) O 11.8 15 19 27 405560

溶解度(L氣/L水) 0.64 0.5 O.456 0.381 O.27 0.112O.031O 這組數(shù)據(jù)大致里線性，而且表明臭氧在水中的溶解度大約是氧的lO-15倍。

威諾薩(venosa)與奧帕特金(Opatken)指出，決定臭氧(或任何氣體)在某液體中的溶解度的基本關(guān)系式是亨利定律．即在一定溫度下，任何氣體溶解于已知體積的液體中的重量，將與該氣體作用在液體上的分壓成正比。

而且此定律可推導出結(jié)論：在標準溫度與壓力下，臭氧是氧溶解度的13倍。

從亨利定律可以得出結(jié)論：要提高臭氧在水中的溶解度，必須提高臭氧氣在整個氣源中分壓，即提高臭氧源的濃度，如果臭氧源的濃度不夠，處理時間再長，水中臭氧濃度也提不高(因已達到濃度平衡)。

從以上論述，可以得到結(jié)論：

1、為保證殺菌效果，必須保證水中臭氧的一定濃度與處理時間。

2、為保證水中臭氧的一定濃度就需保證：

a．臭氧源的濃度。

b．一定的氣溫。

c．水溫不能過高。

d．投入水中臭氧氣的比表面積盡量大，使臭氧與水的接觸機會更多。

根據(jù)國內(nèi)外應用經(jīng)驗一般水質(zhì)的飲用水消毒處理參數(shù)推薦為：水溶臭氧濃度O.4mg/L，接觸時間為4分鐘，即CT值為1.6。臭氧投加量1-2mg/L，水溫在25℃以下。前蘇聯(lián)標準規(guī)定飲用水中臭氧濃度不低于O.3mg/L。我國瓶裝水行業(yè)推薦灌裝時瓶內(nèi)水臭氧濃度0.3mg/L. 二、目前常用的三種接觸裝置與其效果 前節(jié)已提到接觸裝置的根本目的是保證臭氧在水中有盡量大的溶解度，為此，就需使臭氧氣與水的接觸面盡量大，有足夠的接觸時間，因而對接觸裝置的基本要求是：

1、能保證*化的臭氧吸收效果。

2、接觸裝置工作時，工藝參數(shù)控制容易，工作穩(wěn)定，安全性好。

3、能耗(攪拌或輸送水、氣所需動力)低。

4、小的體積下有大的生產(chǎn)能力。

5、結(jié)構(gòu)簡單，用料便宜，制造與維修成本低。

一般常用的接觸裝置有三種：鼓泡塔或池：水射器(文丘里管)與固定螺旋混合器(單用或合用)：攪拌器或螺旋泵：也有兩種以上串聯(lián)使用的，簡介如下： l、鼓泡法：大型水處理用鼓泡池，小型水處理則常用鼓泡塔，它要求鼓泡器有小(幾個微米到幾十微米孔徑)的孔徑以增加臭氧的比表面積，而且要求孔徑布氣均勻，以使水、氣全面接觸，尤其是在鼓泡池中用多個布氣器時，同時一般要求從水面到布氣器表面，水深不小于4-5m，以利于氣、水充分接觸。